Kvůli dotačnímu podvodu v píseckém Technologickém parku poslal soud do vězení dva muže
PRAHA/ PÍSEK – Sedm let vězení. Takový rozsudek zazněl 28. července u Městského soudu v Praze v případě dvou mužů, kteří se podle obžaloby měli dopustit dotačního podvodu v souvislosti s Technologickým parkem v Písku. O kauze informovala jako první ČT24.